TY - JOUR A1 - Toinin, Jacques Perrin A1 - Portavoce, Alain A1 - Hoummada, Khalid A1 - Texier, Michaël A1 - Bertoglio, Maxime A1 - Bernardini, Sandrine A1 - Abbarchi, Marco A1 - Chow, Lee T1 - Nanoporous Ge thin film production combining Ge sputtering and dopant implantation JF - Beilstein Journal of Nanotechnology PY - 2015/// VL - 6 SP - 336 EP - 342 SN - 2190-4286 DO - 10.3762/bjnano.6.32 PB - Beilstein-Institut JA - Beilstein J. Nanotechnol. UR - https://doi.org/10.3762/bjnano.6.32 KW - germanium KW - ion implantation KW - porous material N2 - In this work a novel process allowing for the production of nanoporous Ge thin films is presented. This process uses the combination of two techniques: Ge sputtering on SiO2 and dopant ion implantation. The process entails four successive steps: (i) Ge sputtering on SiO2, (ii) implantation preannealing, (iii) high-dose dopant implantation, and (iv) implantation postannealing. Scanning electron microscopy and transmission electron microscopy were used to characterize the morphology of the Ge film at different process steps under different postannealing conditions. For the same postannealing conditions, the Ge film topology was shown to be similar for different implantation doses and different dopants. However, the film topology can be controlled by adjusting the postannealing conditions. ER - TY - JOUR AU - Schuppler, S. AU - Friedman, S. L. AU - Marcus, M. A. AU - Adler, D. L. AU - Xie, Y.-H. AU - Ross, F. M. AU - Chabal, Y. J. AU - Harris, T. D. AU - Brus, L. E. AU - Brown, W. L. AU - Chaban, E. E. AU - Szajowski, P. F. AU - Christman, S. B. AU - Citrin, P. H. JF - Phys. Rev. B PY - 1995/// VL - 52 SP - 4910 DO - 10.1103/PhysRevB.52.4910 ER - TY - JOUR AU - Barbagiovanni, E. G. AU - Lockwood, D. J. AU - Simpson, P. J. AU - Goncharova, L. V. JF - Appl. Phys. Rev. PY - 2014/// VL - 1 SP - 011302 DO - 10.1063/1.4835095 ER - TY - JOUR AU - Iyer, S. S. AU - Xie, Y.-H. JF - Science PY - 1993/// VL - 260 SP - 40 DO - 10.1126/science.260.5104.40 ER - TY - JOUR AU - Hybertsen, M. S. JF - Phys. Rev. Lett. PY - 1994/// VL - 72 SP - 1514 DO - 10.1103/PhysRevLett.72.1514 ER - TY - JOUR AU - Kovalev, D. AU - Heckler, H. AU - Ben-Chorin, M. AU - Polisski, G. AU - Schwartzkopff, M. AU - Koch, F. JF - Phys. Rev. Lett. PY - 1998/// VL - 81 SP - 2803 DO - 10.1103/PhysRevLett.81.2803 ER - TY - JOUR AU - Kovalev, D. AU - Heckler, H. AU - Polisski, G. AU - Diener, J. AU - Koch, F. JF - Opt. Mater. PY - 2001/// VL - 17 SP - 35 DO - 10.1016/S0925-3467(01)00017-9 ER - TY - JOUR AU - Nozik, A. J. JF - Nat. Photonics PY - 2012/// VL - 6 SP - 272 DO - 10.1038/nphoton.2012.78 ER - TY - JOUR AU - Beard, M. C. AU - Knutsen, K. P. AU - Yu, P. AU - Luther, J. M. AU - Song, Q. AU - Metzger, W. K. AU - Ellingson, R. J. AU - Nozik, A. J. JF - Nano Lett. PY - 2007/// VL - 7 SP - 2506 DO - 10.1021/nl071486l ER - TY - BOOK AU - Sze, S. M. T1 - Physics of Semiconductor Devices PY - 1981/// PB - Wiley-VCH CY - Berlin ER - TY - JOUR AU - Barbagiovanni, E. G. AU - Lockwood, D. J. AU - Simpson, P. J. AU - Goncharova, L. V. JF - J. Appl. Phys. PY - 2012/// VL - 111 SP - 034307 DO - 10.1063/1.3680884 ER - TY - JOUR AU - Süess, M. J. AU - Geiger, R. AU - Minamisawa, R. A. AU - Schiefler, G. AU - Frigerio, J. AU - Chrastina, D. AU - Isella, G. AU - Spolenak, R. AU - Faist, J. AU - Sigg, H. JF - Nat. Photonics PY - 2013/// VL - 7 SP - 466 DO - 10.1038/nphoton.2013.67 ER - TY - JOUR AU - Liu, J. AU - Sun, X. AU - Camacho-Aguilera, R. AU - Kimerling, L. C. AU - Michel, J. JF - Opt. Lett. PY - 2010/// VL - 35 SP - 679 DO - 10.1364/OL.35.000679 ER - TY - JOUR AU - Choi, H. C. AU - Buriak, J. M. JF - Chem. Commun. PY - 2000/// SP - 1669 EP - 1670 DO - 10.1039/B004011H ER - TY - JOUR AU - Chang, S.-S. AU - Hummel, R. E. JF - J. Lumin. PY - 2000/// VL - 86 SP - 33 EP - 38 DO - 10.1016/S0022-2313(99)00179-9 ER - TY - JOUR AU - Ko, T. S. AU - Shieh, J. AU - Yang, M. C. AU - Lu, T. C. AU - Kuo, H. C. AU - Wang, S. C. JF - Thin Solid Films PY - 2008/// VL - 516 SP - 2934 EP - 2938 DO - 10.1016/j.tsf.2007.06.023. ER - TY - JOUR AU - Wilson, I. H. JF - J. Appl. Phys. PY - 1982/// VL - 53 SP - 1698 DO - 10.1063/1.331636 ER - TY - JOUR AU - Wang, L. M. AU - Birtcher, R. C. JF - Appl. Phys. Lett. PY - 1989/// VL - 55 SP - 2494 DO - 10.1063/1.102009 ER - TY - JOUR AU - Stritzker, B. AU - Elliman, R. G. AU - Zou, J. JF - Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B VL - 175–177 SP - 193 EP - 196 DO - 10.1016/S0168-583X(00)00597-8 ER - TY - JOUR AU - Wang, L. M. AU - Birtcher, R. C. JF - Philos. Mag. A PY - 1991/// VL - 64 SP - 1209 DO - 10.1080/01418619108225344 ER - TY - JOUR AU - Holland, O. W. AU - Appleton, B. R. AU - Narayan, J. JF - J. Appl. Phys. PY - 1983/// VL - 54 SP - 2295 DO - 10.1063/1.332385 ER - TY - JOUR AU - Ottaviano, L. AU - Verna, A. AU - Grossi, V. AU - Parisse, P. AU - Piperno, S. AU - Passacantando, M. AU - Impellizzeri, G. AU - Priolo, F. JF - Surf. Sci. PY - 2007/// VL - 601 SP - 2623 EP - 2627 DO - 10.1016/j.susc.2006.11.075 ER - TY - JOUR AU - Romano, L. AU - Impellizzeri, G. AU - Tomasello, M. V. AU - Giannazzo, F. AU - Spinella, C. AU - Grimaldi, M. G. JF - J. Appl. Phys. PY - 2010/// VL - 107 SP - 084314 DO - 10.1063/1.3372757 ER - TY - JOUR AU - Janssens, T. AU - Huyghebaert, C. AU - Vanhaeren, D. AU - Winderickx, G. AU - Satta, A. AU - Meuris, M. AU - Vandervorst, W. JF - J. Vac. Sci. Technol., B PY - 2006/// VL - 24 SP - 510 DO - 10.1116/1.2151904 ER - TY - JOUR AU - Romano, L. AU - Impellizzeri, G. AU - Bosco, L. AU - Ruffino, F. AU - Miritello, M. AU - Grimaldi, M. G. JF - J. Appl. Phys. PY - 2012/// VL - 111 SP - 113515 DO - 10.1063/1.4725427 ER - TY - JOUR AU - Darby, B. L. AU - Yates, B. R. AU - Rudawski, N. G. AU - Jones, K. S. AU - Kontos, A. AU - Elliman, R. G. JF - Thin Solid Films PY - 2011/// VL - 519 SP - 5962 EP - 5965 DO - 10.1016/j.tsf.2011.03.040 ER - TY - ELEC T1 - Particle interactions with matter UR - http://srim.org ER - TY - BOOK AU - Ziegler, J. F. AU - Biersack, J. P. AU - Littmark, U. T1 - The Stopping and Range of Ions in Solids PY - 1985/// PB - Pergamom CY - New York ER - TY - JOUR AU - Ziegler, J. F. JF - Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B PY - 2004/// VL - 219–220 SP - 1027 DO - 10.1016/j.nimb.2004.01.208 ER - TY - JOUR AU - Ipser, H. AU - Gambino, M. AU - Schuster, W. JF - Monatsh. Chem. PY - 1982/// VL - 113 SP - 389 EP - 398 DO - 10.1007/BF00799914 ER - TY - JOUR AU - Okamoto, H. JF - J. Phase Equilib. PY - 2000/// VL - 21 SP - 496 DO - 10.1361/105497100770339789 ER - TY - JOUR AU - Ghosh, G. AU - Sharma, R. C. AU - Li, D. T. AU - Chang, Y. A. JF - J. Phase Equilib. PY - 1994/// VL - 15 SP - 213 EP - 224 DO - 10.1007/BF02646370 ER - TY - JOUR AU - Claverie, A. AU - Koffel, S. AU - Cherkashin, N. AU - Benassayag, G. AU - Scheiblin, P. JF - Thin Solid Films PY - 2010/// VL - 518 SP - 2307 EP - 2313 DO - 10.1016/j.tsf.2009.09.162 ER - TY - JOUR AU - Allen, C. E. AU - Ditchfield, R. AU - Seebauer, E. G. JF - Phys. Rev. B PY - 1997/// VL - 55 SP - 13304 DO - 10.1103/PhysRevB.55.13304 ER - TY - JOUR AU - Thompson, C. V. JF - Annu. Rev. Mater. Res. PY - 2012/// VL - 42 SP - 1 EP - 36 DO - 10.1146/annurev-matsci-070511-155048 ER - TY - JOUR AU - Trice, J. AU - Thomas, D. AU - Favazza, C. AU - Sureshkumar, R. AU - Kalyanaraman, R. JF - Phys. Rev. B PY - 2007/// VL - 75 SP - 235439 DO - 10.1103/PhysRevB.75.235439 ER - TY - JOUR AU - Ruffino, F. AU - Pugliara, A. AU - Carria, E. AU - Romano, L. AU - Bongiorno, C. AU - Spinella, C. AU - Grimaldi, M. G. JF - Nanotechnology PY - 2012/// VL - 23 SP - 045601 DO - 10.1088/0957-4484/23/4/045601 ER - TY - JOUR AU - Abbarchi, M. AU - Naffouti, M. AU - Vial, B. AU - Benkouider, A. AU - Lermusiaux, L. AU - Favre, L. AU - Ronda, A. AU - Bidault, S. AU - Berbezier, I. AU - Bonod, N. JF - ACS Nano PY - 2014/// VL - 8 SP - 11181 EP - 11190 DO - 10.1021/nn505632b ER - TY - JOUR AU - Szkutnik, P. D. AU - Karmous, A. AU - Bassani, F. AU - Ronda, A. AU - Berbezier, I. AU - Gacem, K. AU - El Hdiy, A. AU - Troyon, M. JF - Eur. Phys. J.: Appl. Phys. PY - 2008/// VL - 41 SP - 103 EP - 106 DO - 10.1051/epjap:2008006 ER - TY - JOUR AU - Gacem, K. AU - El Hdiy, A. AU - Troyon, M. AU - Berbezier, I. AU - Ronda, A. JF - Nanotechnology PY - 2010/// VL - 21 SP - 065706 DO - 10.1088/0957-4484/21/6/065706 ER - TY - JOUR AU - Berbezier, I. AU - Aouassa, M. AU - Ronda, A. AU - Favre, L. AU - Bollani, M. AU - Sordan, R. AU - Delobbe, A. AU - Sudraud, P. JF - J. Appl. Phys. PY - 2013/// VL - 113 SP - 064908 DO - 10.1063/1.4790713 ER - TY - JOUR AU - De Luca, A. AU - Portavoce, A. AU - Texier, M. AU - Grosjean, C. AU - Burle, N. AU - Oison, V. AU - Pichaud, B. JF - J. Appl. Phys. PY - 2014/// VL - 115 SP - 013501 DO - 10.1063/1.4859455 ER - TY - JOUR AU - Texier, M. AU - Thibault-Pénisson, J. JF - Micron PY - 2012/// VL - 43 SP - 516 DO - 10.1016/j.micron.2011.09.014 ER -